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品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 雙波段激光反射鏡-4
介電雙波段鏡可在規定的波長(基本和倍頻激光線或基本激光線及其對準光束)提供99.5%的反射率。
產(chan) 品介紹
Ø高反射鏡(99.5%反射率)
Ø設計用於(yu) 45°或0°入射角
Ø由BK7玻璃或UV級熔融石英製成
Eksma 雙波段激光反射鏡-4
激光線反射鏡是介電反射鏡,在規定的激光波長下具有優(you) 良性能。雙波段激光鏡可用於(yu) 需要兩(liang) 條激光線反射的應用。
我們(men) 的激光鏡由BK7或石英製成,並塗有多層介電鍍膜。獲得的高拋光質量對於(yu) 低波前畸變,低散射和高損傷(shang) 閾值也很重要。
EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
產(chan) 品型號
UVFS; ø50.8 x 8 mm
型號 | 材料 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 | |||||||
065-2635 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
065-2635-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
065-2653 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
065-2653-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
065-3553 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | |||||||
065-3553-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | |||||||
065-3506 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
065-3506-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
065-4080 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | |||||||
065-4080-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | |||||||
065-5103 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
065-5103-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
065-5306 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
065-5306-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
065-6306 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
065-6306-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
UVFS; ø76.2 x 12.7 mm 型號 | 材料 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 | |||||||
067-2635 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
067-2635-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
067-2653 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
067-2653-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
067-5103 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
067-5103-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
067-3506 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
067-3506-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
067-5306 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
067-5306-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
067-6306 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
067-6306-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H |
SUBSTRATE
材料 | BK7 *玻璃或UV級熔融石英 |
S1表麵平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表麵質量 | 20-10表麵光潔度激光質量 |
S2表麵質量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶於(yu) 實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
損壞閾值 | BK7雙線鏡-1 J / cm2,8 ns脈衝(chong) ,典型1064 nm |
鍍膜表麵平整度 | UVFS雙線反射鏡-2 J / cm2,8 ns脈衝(chong) ,典型1064 nm |
入射角 | 633 nm處的λ/ 10超過直徑的85% |
EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
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