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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 高反射鍍膜
Eksma 高反射鍍膜
介電多層高反射率鍍膜是用於(yu) 在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較大可能反射率的疊層。
產(chan) 品介紹
多層介電高反射率（HR）鍍膜是用於(yu) 在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們(men) 提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。
激光線高反射率鍍膜適用於(yu) 外部光束處理應用，在這些應用中，甚至可能會(hui) 有很小的損失。
請發送帶有鍍膜和基材代碼的定製產(chan) 品請求，以獲取報價(jia) 。對於(yu) 基材，請參閱我們(men) 的標準未鍍膜激光窗口部分。
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
產(chan) 品型號
高反射率激光線鍍膜
鍍膜型號 | 波長 | 反射率（％） | 推薦 | 損傷(shang) | ||
AOI=0° |
|
|
| AOI=45° | 基材 | 閾值 |
1007-i0 | 1007-i45 | 226 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1009-i0 | 1009-i45 | 248 | >99 | >99 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1011-i0 | 1011-i45 | 266 | >99.5 | >99 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1013-i0 | 1013-i45 | 308 | >99.5 | >99.2 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1015-i0 | 1015-i45 | 325 | >99.5 | >99.2 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1017-i0 | 1017-i45 | 337 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1019-i0 | 1019-i45 | 355 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1021-i0 | 1021-i45 | 400 | >99.7 | >99.5 | UVFS | 1.5 J/cm2 |
1023-i0 | 1023-i45 | 473 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1024-i0 | 1024-i45 | 488-515 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1025-i0 | 1025-i45 | 532 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1027-i0 | 1027-i45 | 589 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1029-i0 | 1029-i45 | 616 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1030-i0 | 1030-i45 | 633 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1031-i0 | 1031-i45 | 780 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1032-i0 | 1032-i45 | 800 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1033-i0 | 1033-i45 | 830 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1034-i0 | 1034-i45 | 852 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1037-i0 | 1037-i45 | 1064 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 5 J/cm2 |
1039-i0 | 1039-i45 | 1320 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1045-i0 | 1045-i45 | 1550 | >99.7 | >99.5 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1047-i0 | 1047-i45 | 2000 | >99 | >99 | UVFS, Sapphire | 1.5 J/cm2 |
1049-i0 | 1049-i45 | 2100 | >99 | >99 | UVFS, Sapphire | 1.5 J/cm2 |
高反射率寬帶塗層
鍍膜型號 | 波長 | 反射率（％） | 推薦 | 損傷(shang) | ||
AOI=0° |
|
|
| AOI=45° | 基材 | 閾值 |
1106-i0 | 1106-i45 | 220-250 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 in 10 ns |
1110-i0 | 1110-i45 | 260-340 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1114-i0 | 1114-i45 | 350-450 | >99 | >99 | UVFS | 1 J/cm2 |
1116-i0 | 1116-i45 | 420-680 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1130-i0 | 1130-i45 | 600-900 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1132-i0 | 1132-i45 | 720-880 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1133-i0 | 1133-i45 | 760-840 nm | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
1142-i0 | 1142-i45 | 900-1100 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
1144-i0 | 1144-i45 | 1100-1400 | >99 | >99 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
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