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品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 防反射鍍膜
Eksma 防反射鍍膜
這些多層抗反射鍍膜設計用於(yu) 將一個(ge) 非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。
產(chan) 品介紹
這些多層抗反射鍍膜設計用於(yu) 將一個(ge) 非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此,寶貴的激光能量可以通過複雜的光學係統有效透射,而不會(hui) 因為(wei) 眩光和散射而丟(diu) 失。我們(men) 的抗反射(AR)鍍膜旨在按正常入射使用,以這種方式使用時將實現較大的效率透射。
EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
產(chan) 品型號
ø25.4 mm光學元件的價(jia) 格表
激光線抗反射鍍膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R,%(AOI=0°) | LIDT激光損傷(shang) 閾值 |
AR266 | ≤ ø 25.4 mm | 266 nm | R<0.4% | 1 J/cm² |
AR343 | ≤ ø 25.4 mm | 333-353 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
AR343HT | ≤ ø 25.4 mm | 333-353 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR355 | ≤ ø 25.4 mm | 355 nm | R<0.25% | 3 J/cm² |
AR355HT | ≤ ø 25.4 mm | 355 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR400 | ≤ ø 25.4 mm | 380-420 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
AR400HT | ≤ ø 25.4 mm | 380-420 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
AR515 | ≤ ø 25.4 mm | 500-530 nm | R<0.3% | 5 J/cm² |
AR515HT | ≤ ø 25.4 mm | 500-530 nm | R<0.1% | 7 J/cm² |
AR532 | ≤ ø 25.4 mm | 532 nm | R<0.2% | 5 J/cm² |
AR532HT | ≤ ø 25.4 mm | 532 nm | R<0.1% | 7 J/cm² |
AR800 | ≤ ø 25.4 mm | 760-840 nm | R<0.4% | 8 J/cm² |
AR800HT | ≤ ø 25.4 mm | 760-840 nm | R<0.1% | 10 J/cm² |
AR1030 | ≤ ø 25.4 mm | 1000-1060 nm | R<0.3% | 10 J/cm² |
AR1030HT | ≤ ø 25.4 mm | 1000-1060 nm | R<0.1% | 15 J/cm² |
AR1064 | ≤ ø 25.4 mm | 1064 nm | R<0.2% | 10 J/cm² |
AR1064HT | ≤ ø 25.4 mm | 1064 nm | R<0.1% | 15 J/cm² |
雙波段抗反射鍍膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R, %(AOI=0°) | LIDT激光損傷(shang) 閾值 |
ARD800HT | ≤ ø 25.4 mm | 400+800 nm | R<0.2% | 4 J/cm² |
ARD1030 | ≤ ø 25.4 mm | 515+1030 nm | R<0.5% | 4 J/cm² |
ARD1030HT | ≤ ø 25.4 mm | 515+1030 nm | R<0.1% | 6 J/cm² |
ARD1064 | ≤ ø 25.4 mm | 532+1064 nm | R<0.5% | 4 J/cm² |
ARD1064HT | ≤ ø 25.4 mm | 532+1064 nm | R<0.1% | 6 J/cm² |
寬帶減反射膜
型號 | 基材尺寸 | 波長 | R, %(AOI=0°) | 激光損傷(shang) 閾值 |
ARB300 | ≤ ø 25.4 mm | 210-400 nm | R<2% | 1 J/cm² |
ARB550 | ≤ ø 25.4 mm | 400-700 nm | R<0.9% | 2 J/cm² |
ARB625 | ≤ ø 25.4 mm | 350-900 nm | R<1.5% | 2 J/cm² |
ARB825 | ≤ ø 25.4 mm | 650-1100 nm | R<0.7% | 3 J/cm² |
ARB800 | ≤ ø 25.4 mm | 700-900 nm | R<0.5% | 3 J/cm² |
ARB800HT | ≤ ø 25.4 mm | 700-900 nm | R<0.1% | 5 J/cm² |
ARB1000HT | ≤ ø 25.4 mm | 900-1100 nm | R<0.1% | 5 J/cm² |
ARB1375 | ≤ ø 25.4 mm | 1050-1700 nm | R<0.7% | 2 J/cm² |
Laser Line AR coatings
鍍膜型號 | 波長 | 反射率, % | 損傷(shang) 閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | nm | AOI=0° | AOI=45° | Threshold |
3005-i0 | 3005-i45 | 193 | < 1.0 | <2.0 | 1 J/cm2 |
3007-i0 | 3007-i45 | 248 | < 0.8 | <1.5 | 1.5 J/cm2 |
3009-i0 | 3009-i45 | 266 | < 0.4 | <1.0 | 1.5 J/cm2 |
3011-i0 | 3011-i45 | 308 | <0.3 | <0.6 | 1.5 J/cm2 |
3014-i0 | 3014-i45 | 343 | <0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3015-i0 | 3015-i45 | 351-355 | < 0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3017-i0 | 3017-i45 | 400 | < 0.25 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3021-i0 | 3021-i45 | 488-514 | < 0.3 | <0.5 | 2 J/cm2 |
3023-i0 | 3023-i45 | 515 | < 0.2 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3025-i0 | 3025-i45 | 532 | < 0.2 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3027-i0 | 3027-i45 | 633-650 | < 0.25 | <0.5 | 4 J/cm2 |
3031-i0 | 3031-i45 | 780 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3033-i0 | 3033-i45 | 800 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3035-i0 | 3035-i45 | 850 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3036-i0 | 3036-i45 | 1030 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3037-i0 | 3037-i45 | 1064 | < 0.2 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3041-i0 | 3041-i45 | 1320 | <0.3 | <0.5 | 5 J/cm2 |
3045-i0 | 3045-i45 | 1547 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
請與(yu) 我們(men) 聯係以獲取其他波長和AOI值。
雙波段增透膜
鍍膜型號 | 波長, nm | 反射率, % | 損傷(shang) 閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | AOI=0° | AOI=45° | Threshold | |
3106-i0 | 3106-i45 | 266 + 532 | <0.5 | <1.0 | 1.5 J/cm2 |
3110-i0 | 3110-i45 | 355 + 532 | <0.5 | <1.0 | 2 J/cm2 |
3114-i0 | 3114-i45 | 355 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 2 J/cm2 |
3118-i0 | 3118-i45 | 400 + 800 | <0.5 | <1.0 | 3 J/cm2 |
3121-i0 | 3121-i45 |
| <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3122-i0 | 3122-i45 | 532 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3126-i0 | 3126-i45 | 670 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3127-i0 | 3127-i45 | 808 + 1064 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3130-i0 | 3130-i45 | 1064 +1320 | <0.5 | <1.0 | 4 J/cm2 |
3134-i0 | 3134-i45 | 1064 +1570 | <0.5 | <1.0 | 3 J/cm2 |
請與(yu) 我們(men) 聯係以獲取其他波長和AOI值。
寬帶增透膜
寬帶抗反射BBAR鍍膜設計用於(yu) 在特定波長範圍內(nei) 將組件的反射率降低至接近零。因此,光可以通過複雜的光學係統有效透射,而不會(hui) 因眩光和散射而丟(diu) 失。我們(men) 的增透膜旨在按正常入射使用,以這種方式使用時將實現較大的效率透射。
鍍膜型號 | 波長, nm | 反射率, % | 損傷(shang) 閾值 | ||
AOI=0° | AOI=45° | AOI=0° | AOI=45° | Threshold | |
3205-i0 | 3205-i45 | 210-400 | <2 | <3 | 1.5 J/cm2 |
3207-i0 | 3207-i45 | 250-350 | <1.2 | <2.5 | 1.5 J/cm2 |
3209-i0 | 3209-i45 | 300-400 | <1.0 | <2.0 | 1.5 J/cm2 |
3211-i0 | 3211-i45 | 350-500 | <0.8 | <1.6 | 2.0 J/cm2 |
3213-i0 | 3213-i45 | 350-900 | <1.5 | <3.0 | 2.0 J/cm2 |
3215-i0 | 3215-i45 | 400-550 | <0.4 | <0.8 | 2.5 J/cm2 |
3217-i0 | 3217-i45 | 400-700 | <0.9 | <1.8 | 3.0 J/cm2 |
3219-i0 | 3219-i45 | 420-680 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3221-i0 | 3221-i45 | 450-750 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3223-i0 | 3223-i45 | 500-800 | <0.6 | <1.2 | 3.0 J/cm2 |
3224-i0 | 3224-i45 | 500-1000 | <1.5 | <3.0 | 3.0 J/cm2 |
3225-i0 | 3225-i45 | 600-900 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3227-i0 | 3227-i45 | 750-900 | <0.5 | <1.0 | 3.0 J/cm2 |
3229-i0 | 3229-i45 | 800-1200 | <0.7 | <1.4 | 2.5 J/cm2 |
3231-i0 | 3231-i45 | 1000-1400 | <0.7 | <1.4 | 2.0 J/cm2 |
3232-i0 | 3232-i45 | 1050-1700 | <1 | <1.5 | 2.0 J/cm2 |
3233-i0 | 3233-i45 | 1300-1700 | <0.7 | <1.4 | 2.0 J/cm2 |
3235-i0 | 3235-i45 | 1500-2000 | <0.7 | <1.4 | 1.5 J/cm2 |
這些多層抗反射鍍膜設計用於(yu) 將一個(ge) 非常特定的波長的組件的反射率降低到接近零。因此,寶貴的激光能量可以通過複雜的光學係統有效透射,而不會(hui) 因為(wei) 眩光和散射而丟(diu) 失。我們(men) 的抗反射(AR)鍍膜旨在按正常入射使用,以這種方式使用時將實現較大的效率透射。
EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
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