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Eksma 可變衰減器990-0073

簡要描述:Eksma 可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架製成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-04-23
  • 訪  問  量:1147

詳細介紹

品牌Eksma價格區間麵議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 可變衰減器990-0073

適用於(yu) 飛秒和ND:YAG激光脈衝(chong) 的可變衰減器990-0073

Eksma 可變衰減器990-0073

可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架製成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

產(chan) 品介紹

Ø將激光束分為(wei) 兩(liang) 束手動調節的強度比,以68°角分開

Ø大動態範圍

Ø透射光束偏移〜1.4毫米

Ø高光學損傷(shang) 閾值

該可變衰減器/分束器由直徑76.2 mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,並裝入分束器安裝座840-0056-13和石英零階(光學接觸)。直徑為(wei) 40 mm的半波片(用於(yu) 飛秒脈衝(chong) ),零階空間隔的半波片(用於(yu) 高功率應用)或多階半波片(用於(yu) Nd:YAG激光脈衝(chong) )容納在旋轉的偏振片支架840-0180-A2中,放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續改變那兩(liang) 個(ge) 分離且不同的偏振光束的強度比,而無需改變其他光束參數。可以在很寬的動態範圍內(nei) 控製出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-13運動安裝座可將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調整為(wei) ±4.5°,並獲得較大的消光對比度。支架位於(yu) 杆,杆支架和可移動基座820-0090上。

距桌麵的光軸高度可以在92-98 mm的範圍內(nei) 調節。可以提供其他高度作為(wei) 定製,以將標準杆和杆架更改為(wei) 更高的高度。

產(chan) 品型號

適用於(yu) Nd:YAG激光應用

代碼

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0073-355

355 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0073-532

532 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

990-0073-1064

1064 nm

5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

飛秒激光脈衝(chong)

代碼

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0073-266

266 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-343

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-400

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-515

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030B

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

適用於(yu) 高功率飛秒應用

代碼

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0073-266H

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-343H

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-400H

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-515H

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800H

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0073-1030HB

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm


通光孔徑

36 mm

損害閾值


對於(yu) Nd:YAG應用

>5 J/cm2, 10 ns at, 10 Hz 1064 nm, typical

飛秒應用

>10 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical

用於(yu) 大功率應用

>100 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical

偏振比

>1:200

透射光束偏移

~1.4 mm

重量

0.6 kg

EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。


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