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Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

簡要描述:Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器
該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器,用於(yu) 偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光,同時透射P偏振光,可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。可以通過旋轉波片連續改變這兩(liang) 個(ge) 光束的強度比,而不會(hui) 改變其他光束參數。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-04-23
  • 訪  問  量:1235

詳細介紹

品牌Eksma價格區間麵議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

990-0071

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

Eksma 飛秒級線性偏振激光束可變衰減器

將激光束分成兩(liang) 束,分別由68°的手動可調強度比,較大的動態範圍,可忽略的透射光束偏差組成。

產(chan) 品介紹

Ø將激光束分為(wei) 兩(liang) 束,分別由手動調節強度比的68°角分開

Ø大動態範圍

Ø可以忽略的透射光束偏差

Ø高光學損傷(shang) 閾值

Ø透射光束的衰減範圍:0.5%-95%反射光束的衰減範圍:5%-99.5%

該可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器,用於(yu) 偏振片在56°840-0117A或840-0118A和精密光機械支架840-0197。薄膜布魯斯特型偏振片可容納56°的S偏振光,同時透射P偏振光,可透射P偏振光。石英半波片容納在旋轉支架840-0197中。可以通過旋轉波片連續改變這兩(liang) 個(ge) 光束的強度比,而不會(hui) 改變其他光束參數。

可以在很寬的動態範圍內(nei) 控製出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0197允許將薄膜布魯斯特型偏振器的入射角調整±2°,並獲得較大的偏振對比度。

產(chan) 品型號

飛秒激光脈衝(chong)

型號

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0071-343

343 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400

400 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400B

390-410 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515

515 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515B

505-525 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800

800 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800B

780-820 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030

1030 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030B

1010-1050 nm

> 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

大功率激光應用

型號

波長

激光損傷(shang) 閾值

990-0071-266H

266 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-343H

343 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400H

400 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-400HB

390-410 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515H

515 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-515HB

505-525 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800H

800 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-800HB

780-820 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030H

1030 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

990-0071-1030HB

1010-1050 nm

> 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

飛秒應用

孔徑

10 mm

損害閾值

大功率激光應用:

> 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈衝(chong) ,典型值

> 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈衝(chong) ,典型

時間色散

對於(yu) 100 fs Ti:藍寶石激光脈衝(chong) ,t<4 fs

偏振對比

>1:200


EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。

公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。

我們(men) 的激光組件工作在從(cong) UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜範圍內(nei) ,並在太赫茲(zi) (1-5 THz)範圍內(nei) 工作,可在科學,工業(ye) ,醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍(jun) 事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專(zhuan) 門從(cong) 事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體(ti) 製成的平麵光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光麵。該公司還擁有的IBS塗層設備,球麵,軸錐和非球麵鏡片CNC製造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔淨室設備,超快電光脈衝(chong) 拾取係統製造技術部門和質量控製設備。

公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定製的光學和晶體(ti) 組件。但是,我們(men) 還提供了廣泛的標準目錄產(chan) 品,可以快速實現現成的交付。


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