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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圓形）
Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（圓形）
薄膜偏振片（圓形）將S和P偏振分量分開。 由於(yu) 在800 nm，50 fsec時達到100 mJ / cm2的高損傷(shang) 閾值，它們(men) 可以用作格蘭(lan) 激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代產(chan) 品。
產(chan) 品介紹
Ø標準薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0％
Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0％
Ø對於(yu) 高消光比的薄膜偏振片，Tp> 98％，Ts <0.1％
Ø標準和高透射偏振片的消光比> 200：1
Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000：1（HE係列）
薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量。由於(yu) 在800 nm，50 fsec時達到100 mJ / cm2的高損傷(shang) 閾值，薄膜偏振片可以用作格蘭(lan) 激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產(chan) 品。
薄膜偏振片用於(yu) 高能激光器。它們(men) 可用於(yu) Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長及其諧波或腔內(nei) Q開關(guan) 釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。典型的水平偏振比Tp / Ts為(wei) 200：1。
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
我們(men) 的激光組件工作在從(cong) UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜範圍內(nei) ，並在太赫茲(zi) （1-5 THz）範圍內(nei) 工作，可在科學，工業(ye) ，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍(jun) 事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專(zhuan) 門從(cong) 事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體(ti) 製成的平麵光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光麵。該公司還擁有的IBS塗層設備，球麵，軸錐和非球麵鏡片CNC製造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔淨室設備，超快電光脈衝(chong) 拾取係統製造技術部門和質量控製設備。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定製的光學和晶體(ti) 組件。但是，我們(men) 還提供了廣泛的標準目錄產(chan) 品，可以快速實現現成的交付。
產(chan) 品型號
高消光比的薄膜偏振片； UVFS; Tp> 98％，Ts <0.1％
型號 | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1242HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 343 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1244HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1266HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 780-820 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1256HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
420-1248HE | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 |
高透射率薄膜偏振片； 紫外線FS; Ts <0.2％，Rp <0.2％
型號 | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1256UHT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 |
420-1248UHT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 |
高透射率薄膜偏振片； 紫外線FS; Rs / Tp> 99.5 / 99.0％
型號 | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1242HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
420-1244HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
420-1256HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
420-1248HT | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 |
標準薄膜偏振片； BK7; Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％
型號 | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-0114E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0126E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0136E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0118E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0138E | BK7 | 12.7 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0244E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0256E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0266E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0248E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0268E | BK7 | 25.4 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0514E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0506E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0526E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0518E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-0528E | BK7 | 50.8 mm | 6 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
標準薄膜偏振片； UVFS; Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％
型號 | 材料 | 直徑 | 厚度 | 波長 | 偏振效率 | 消光比 |
420-1110E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 266 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1112E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1123E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 400 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1114E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1126E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1136E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1118E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1138E | UV FS | 12.7 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1240E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 266 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1242E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1253E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 400 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1244E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1256E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1266E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1248E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1268E | UV FS | 25.4 mm | 3 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1510E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 266 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1512E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 343 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1503E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 400 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1514E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 515 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1506E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 800 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1526E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 780-820 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1518E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 1030 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
420-1528E | UV FS | 50.8 mm | 6 mm | 1010-1050 nm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 |
材料 | BK7, UV FS |
表麵質量 | 20-10 表麵光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
透射波前畸變 | λ/10 @ 633 nm |
透射效率 | Tp>95% |
消光比Tp / Ts | > 200：1（用於(yu) 標準和HT係列） > 1000：1（對於(yu) HE係列） |
激光損傷(shang) 閾值 | > 100 mJ / cm2，50 fsec脈衝(chong) ，典型800 nm，50 Hz |
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
我們(men) 的激光組件工作在從(cong) UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜範圍內(nei) ，並在太赫茲(zi) （1-5 THz）範圍內(nei) 工作，可在科學，工業(ye) ，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍(jun) 事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專(zhuan) 門從(cong) 事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體(ti) 製成的平麵光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光麵。該公司還擁有的IBS塗層設備，球麵，軸錐和非球麵鏡片CNC製造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔淨室設備，超快電光脈衝(chong) 拾取係統製造技術部門和質量控製設備。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定製的光學和晶體(ti) 組件。但是，我們(men) 還提供了廣泛的標準目錄產(chan) 品，可以快速實現現成的交付
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
我們(men) 的激光組件工作在從(cong) UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜範圍內(nei) ，並在太赫茲(zi) （1-5 THz）範圍內(nei) 工作，可在科學，工業(ye) ，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍(jun) 事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專(zhuan) 門從(cong) 事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體(ti) 製成的平麵光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光麵。該公司還擁有的IBS塗層設備，球麵，軸錐和非球麵鏡片CNC製造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔淨室設備，超快電光脈衝(chong) 拾取係統製造技術部門和質量控製設備。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。
該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定製的光學和晶體(ti) 組件。但是，我們(men) 還提供了廣泛的標準目錄產(chan) 品，可以快速實現現成的交付。
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